PVD(物理气相堆积)技能即在真空条件下，选用物理办法，将资料源——固体或液体外表气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并经过低压气体(或等离子体)进程，在基体外表堆积具有某种特别功用的薄膜的技能。其早在20世纪初已有些使用，但30年迅速开展，成为一门极具宽广使用远景的新技能，现在其首要使用于半导体制作的流程之中，在注塑模具，五金模具以及机械与化工范畴均有使用。
PVD设备则是PVD技能的载体，其首要由泵、溅射设备、真空丈量和检漏体系组成。
从方针环境上来看，我国关于PVD设备较为注重，其首要体现在相关方针关于开展半导体设备的支撑。如《“十三五”国家科技立异规划》中，薄膜设备(PVD设备、CVD设备等)被列为国家需求霸占的高端制作配备;《国家高新技能工业开发区“十三五”规划》中也说到，要推动集成电路要害配备的要害核心技能打破与使用。
PVD开端的研发首要用于制作人造卫星需求耐磨的零部件，跟着其处理技能不断开展，PVD技能的使用规模也开端不断扩展。
现在，PVD现已演化出了较为固定的气化、搬迁和堆积的流程，且依据不同的资料与下流使用，演化出了不同的PVD技能。
全球PVD设备商场，使用资料(AMAT)基本上完成了独占。SEMI数据显现，AMAT所占全球PVD商场份额约为85%，其次为Evatec和Ulvac，别离占6%和5%。
近年来，全球PVD设备商场稳步增加，2019年，全球PVD设备商场规模已超越25亿美元。尽管2020年，全球经济遭到新冠疫情的冲击，出现出显着的下行态势，但PVD设备下流范畴增加非常微弱，估计自2021年起，全球PVD镀膜机的消费量将进一步出现上升趋势， 2025年商场规模将到达32.51亿美元左右。
近年来，我国PVD设备制作工艺不断进步，PVD设备国产化率不断上升，到2019年，我国PVD设备国产化率已到达15%左右。但从我国PVD设备制作技能的发展状况来看，部分类型的产品我国仍暂无生产能力，与海外龙头企业之间仍存在必定的距离。
以上数据来源于前瞻工业研究院《我国半导体工业战略规划和企业战略咨询陈述》，一起前瞻工业研究院供给工业大数据、工业规划、工业申报、工业园区规划、工业招商引资等解决方案。
